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    TFLN（薄膜リチウムニオベート）は、次世代の通信機器や統合型フォトニクスに使用される材料です。この技術は、量子コンピュータなどの未来技術を実現するための鍵となります。さらに、TFLNは、1.6および3.2テラビットの光スイッチや相互接続の重要な要素となる可能性があり、消費者がより高速で優れたサービスを求める中で、TFLNは不可欠な存在となるでしょう。


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    自社半導体ラボ保有
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    10種類以上の先進光学ソリューション提供
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