リチウムニオベート光導波路の最も一般的な作製方法は、プロトン交換法と金属拡散法です。これらの方法で作製された導波路と基板層の屈折率差は小さいため、光閉じ込め効果は弱く、製造過程で導入される外来イオンによりリチウムニオベート結晶自体の特性が損なわれ、導波路性能に影響を及ぼすことがあります。

一方、リチウムニオベート単結晶薄膜（LNOI）を用いたリッジ型導波路構造は、導波路のコアとクラッド間の屈折率差を大幅に拡大するため、光閉じ込め効果が強化され、リチウムニオベート導波路における非線形効果も向上します。さらに、リッジ型導波路の光損傷閾値は高く、高出力周波数変換デバイスの製造に適しています。

高出力 1560 nm 倍周波導波路の出力光パワー特性曲線